Magnetometro ad effetto Kerr NanoMOKE2

Il magnetometro magneto-ottico di Durham Magneto Optics Ltd. NanoMOKE2 è uno strumento a sensibilità ultra-alta per le misurazioni dell’effetto Kerr longitudinale, trasversale e polare.
Il NanoMOKE2 è perfetto per la caratterizzazione magnetica delle nanostrutture e dei film sottili magnetici di grande interesse nei seguenti ambiti:
- nanotecnologie
- studi sulle Magnetic Random Access Memory (MRAM)
- testine di registrazione
- supporti magnetici configurati
- spintronica
- GMR/TMR
- magnetismo di film sottili
- sensori di campo magnetico
Le principali caratteristiche del NanoMOKE2 sono:
- sensibilità e stabilità ultra-alte combinate con un livello di rumore bassissimo: si possono rilevare variazioni del segnale fino allo 0.001% in pochi minuti. Per confronto, basti pensare che un film di Permalloy da 5nm produce una variazione di segnale di Kerr longitudinale di circa il 2%, ovvero 2000 volte più grande della sensibilità offerta.
- Spot laser altamente focalizzato. In funzione dell’obiettivo selezionato lo spot del laser può essere ridotto a una dimensione compresa tra 2.8µm e 5.5µm. Ciò consente di selezionare solo poche nanostrutture in un array denso oppure di ottenere alte sensibilità su singole nanostrutture isolate.
- Localizzazione del campione avanzata. Un microscopio ottico è integrato sul cammino ottico del laser così da poter osservare lo spot del laser e la superficie del campione contemporaneamente. Il campione è posizionato su una piattaforma robotizzata che consente allo spot focalizzato del laser di essere centrato con una precisione < 1µm. Inoltre, la possibilità (unica!) di effettuare la scansione del campione permette di misurare ed identificare strutture magnetiche troppe piccole per essere visualizzate con il microscopio in dotazione.
- Design aperto e flessibile. Tutte le componenti ottiche sono montata su un tavolo ottico standard, permettendo modifiche atte ad adattare il sistema ai requisiti richiesti dalle singole applicazioni.
- LX Pro software. E’ uno strumento di facile utilizzo e molto flessibile che controlla il posizionamento del campione per individuare aree specifiche, di generare e controllare campi con pattern complessi, registrare i cicli di isteresi ed effettuare post-analisi per la rimozione di artefatti, la filtrazione del rumore e calcolare la distribuzione dei campi di switch. Il software LX Pro mette a disposizione dell’utente oltre 150 tra proprietà e metodi di analisi utili all’interfacciamento del sistema con altri software o routine che si desidera scrivere per la propria applicazione.
- Opzioni. E’ possibile inoltre dotare il sistema di un movimentatore X-Y con una corsa massima di 150mm e di un controllo della temperatura variabile tra 4.2K e 500K.
Caption.
Ciclo di isteresi misurato di un singolo nanotubo di Permalloy spesso 5nm, largo 200nm e lungo 18µm, prodotto per litografia a fascio elettronico. Tempo di acquisizione: 11 secondi. Frequenza di sweep del ciclo: 27Hz. Ellitticità di Kerr: longitudinale. Dimesioni dello spot del fascio: 3.3µm
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NanoMOKE3 Specification
NanoMOKE3 Wafer Mapper Specification